塑料成（chéng）型工藝中描述的拋光與其他行業所需的表麵拋光有（yǒu）很大不同，嚴格（gé）來說（shuō），模具的拋光應稱為鏡麵拋（pāo）光。它不僅對拋光

本身有很高的要求，而且對表麵平整度、的平滑度（dù）和幾何精度也有很高的（de）標準。表（biǎo）麵拋光通常僅需要（yào）光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋（pāo）光、流體拋光的過程中，它是（shì）難以準確地控（kòng）製（zhì）各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必（bì）需的，精密模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細（xì）拋光主（zhǔ）要使用砂紙實（shí）驗室和煤油協會（huì）。

　　2、精密拋光主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是（shì）在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕（hén）跡，拋光布為（wéi）9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精（jīng）度為1微米或更大（dà）（包括1微米）的（de）拋光工藝

必須是絕對清潔（jié）的空（kōng）間，用（yòng）於拋光模具。灰塵（chén）、煙霧，頭皮屑和唾液（yè）可能具有高精度（dù）拋光表麵，可在（zài）工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的基本程序，高質量的拋光效果，最（zuì）重要的是（shì）要有高質量的拋光工（gōng）具和砂紙和研磨膏等配件。最重（chóng）要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光（guāng）程序的選擇（zé）取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削（xuē）。

　　4、機械拋光的一般過（guò）程如下。粗拋、銑削、電火（huǒ）花、的處理之後磨削表麵可以被（bèi）選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉（fěn）碎機旋轉。常見的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層（céng）。然（rán）後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條（tiáo）作為潤滑劑或冷卻劑。一（yī）般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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