塑料成型工藝中描述的拋光與（yǔ）其他行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模（mó）具的拋光（guāng）應稱為鏡麵拋光。它不僅（jǐn）對拋光

本身（shēn）有很高（gāo）的要求，而且對表麵（miàn）平整度、的平滑度和幾（jǐ）何（hé）精度也有很高的標準。表麵拋光通常僅需要光澤表（biǎo）麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控製各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是（shì）必需的，精密模（mó）具主要是基於機（jī）械拋光。 。

　　1、半精細拋光主（zhǔ）要使用砂紙實驗室和煤（méi）油（yóu）協會。

　　2、精密拋光（guāng）主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的（de）＃1500離開（kāi）頭發的痕跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要（yào）求精度（dù）為1微米或更大（包括1微米）的拋光（guāng）工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭（tóu）皮屑和唾液可能具有高精度拋光表麵，可在工（gōng）作數小時後獲得。

　　3、為了獲（huò）得機械拋光（guāng）的基本程序，高質量的拋光效果，最重要的是要有高質（zhì）量的拋光工（gōng）具和砂紙和研磨膏等配件。最重要的是一（yī）個（gè）複雜的（de）工作環境，需要一個潔淨室（shì）。拋（pāo）光程序（xù）的選擇取決於（yú）先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下。粗（cū）拋、銑削、電火（huǒ）花（huā）、的處理之後磨削表麵可（kě）以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波（bō）粉碎機旋轉（zhuǎn）。常見的（de）方法是使用直（zhí）徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花（huā）層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油（yóu）條作為潤滑劑或（huò）冷卻（què）劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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